| 仕 様 | ||
|---|---|---|
| FIB | 二次電子像分解能（C.P） | 4 nm @ 30 kV 60 nm @ 2 kV |
| 加速電圧 | 0.5 kV – 30 kV | |
| プローブ 電流範囲 |
0.05 pA – 100 nA | |
| イオン源 | GA液体金属イオン源 | |
| SEM | 二次電子像分解能（C.P） | 1.5 nm @ 1 kV、 0.7 nm @ 15 kV |
| 加速電圧 | 0.1 kV – 30 kV | |
| 電子銃 | 冷陰極電界放出型 | |
| 試料サイズ | 最大 150 mm径 | |
| オプション | Ar/Xeイオンビームシステム | |
| EDS（エネルギー分散型X線分析装置） | ||
