ページが見つかりませんでした – 微細構造解析プラットフォーム|高性能電子顕微鏡による反応科学・ナノ材料科学研究支援拠点 https://nanoplat.nagoya-microscopy.jp 名古屋大学エコトピア科学研究所超高圧電子顕微鏡施設は、文部科学省「ナノテクノロジープラットフォーム」事業において高性能電子顕微鏡による反応科学・ナノ材料科学研究支援拠点」を推進し、産学官の多様な利用者による設備の共用を促進し、産業界や研究現場が有する技術課題の解決のための研究環境を提供します。 Mon, 23 Mar 2020 01:13:02 +0000 ja hourly 1 https://wordpress.org/?v=6.1.5 https://nanoplat.nagoya-microscopy.jp/wp/wp-content/uploads/2022/12/cropped-site-icon-32x32.png ページが見つかりませんでした – 微細構造解析プラットフォーム|高性能電子顕微鏡による反応科学・ナノ材料科学研究支援拠点 https://nanoplat.nagoya-microscopy.jp 32 32 反応科学超高圧 走査透過電子顕微鏡 JEM 1000K RS https://nanoplat.nagoya-microscopy.jp/archives/586 Thu, 19 Dec 2019 09:10:38 +0000 https://nanoplat.nagoya-microscopy.jp/wp/?p=586

 反応科学超高圧走査透過電子顕微鏡 JEM-1000k RSは、10-6Paの高真空から、1.3×104Paまでのガス環境下でその場観察が可能です。また、ガス環境下での電子エネルギー損失分光(EELS)も可能です。ガスは2系統で導入でき、N2、O2、H2、CO+Airガスを常備しています。それ以外のガスを希望する場合は個々に相談を応じます。

 本装置による3次元CTは、ガス反応室を用いない場合、1軸傾斜±70°の傾斜が可能です。また、360°回転ホルダーの利用も可能であり、高加速電圧の特色を生かして、厚い試料の立体観察に有効です。これは、生物・非生物試料共通です。

 そのほか、液体Heホルダー、2軸傾斜加熱ホルダー、ワイヤータイプ超高温加熱ホルダー、ナノインデンテイションホルダーなどの利用が可能です。

主な装置性能

厚い試料の3次元立体観察 3次元観察装置 元素マッピング EELS機能、元素分析・解析装置
ガス環境下での観察 多機能ガス環境試料室 厚い試料の3次元立体観察 3次元観察装置
元素分析と構造解析が同時に可能 元素分析、STEM機能 半導体デバイス等の歪み解析 3段系集束レンズ
化学との融合 元素分析、EELS機能 物性と原子レベル構造の同時測定 STEM、EELS機能

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高分解能電子状態計測 走査透過型電子顕微鏡 JEM-ARM200(Cold) (収差補正電子顕微鏡) https://nanoplat.nagoya-microscopy.jp/archives/591 Thu, 19 Dec 2019 09:00:19 +0000 https://nanoplat.nagoya-microscopy.jp/wp/?p=591

 JEM-ARM200Fは照射系球面収差補正装置を搭載した、世界最高のSTEM-HAADF像分解能78pmを有する原子分解能分析電子顕微鏡で、EDSもしくはEELSと兼用すると原子レベルでの元素分析が可能です。

分解能
走査透過暗視野像 82pm(加速電圧200kV、ショットキー電界放出形電子銃搭載時)
78pm(加速電圧200kV、冷陰極電界放出形電子銃搭載時)
透過像(点分解能) 190pm(加速電圧200kV) 110pm(加速電圧200kV、結像系球面収差補正装置装着時)
倍率
走査透過像 X200~X150,000,000
透過像 X50~X2,000,000
電子銃
電子銃 ショットキー電界放出形電子銃 冷陰極電界放出形電子銃(オプション)
加速電圧 200~80kV(標準200kV、80kV)
試料系
ステージ ユーセントリックサイドエントリーゴニオメーターステージ
試料サイズ 3mmΦ
最大傾斜角 X軸:±25° Y軸:±25°(2軸傾斜ホルダ使用時)
移動範囲 X,Y:±1mm Z:±0.1mm(モータ駆動/ピエゾ駆動)
収差補正装置
照射系球面収差補正装置
結像系球面収差補正装置
その他
エネルギー分散形X線分析装置(EDS)
電子線エネルギー損失分光器(EELS)
デジタルCCDカメラシステム
TEM/STEMトモグラフィーシステム
バイプリズム
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電界放出走査 透過電子顕微鏡 JEM-10000BU (収差補正電子顕微鏡) https://nanoplat.nagoya-microscopy.jp/archives/642 Tue, 17 Dec 2019 05:14:44 +0000 https://nanoplat.nagoya-microscopy.jp/wp/?p=642

 電界放出走査透過電子顕微鏡(収差補正電子顕微鏡)JEM-10000BUには、集束レンズ系、結像レンズ系両方に球面収差補正器が組み込まれており、STEM(200kV)・TEM(200kV)共に0.10nmの分解能が得られます。エネルギー分散X線分光(EDX)、EELS、および、電子線ホログラフィーを用いた原子分解能での微小電位観察も可能です。

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電子分光走査透過電子顕微鏡 EM2100M https://nanoplat.nagoya-microscopy.jp/archives/645 Mon, 16 Dec 2019 05:18:32 +0000 https://nanoplat.nagoya-microscopy.jp/wp/?p=645

 電子分光走査透過電子顕微鏡 JEM-2100Mにより、EELS,波長分散X線分光(WDX)、 カソードルミネッセンス(CL)が100kから1000kまでの温度範囲で可能です。

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高分解能透過型電子顕微鏡システム JEM-2100F/HK https://nanoplat.nagoya-microscopy.jp/archives/647 Sun, 15 Dec 2019 05:19:09 +0000 https://nanoplat.nagoya-microscopy.jp/wp/?p=647

 電界放出型電子顕微鏡(加速電圧200kV)で、直接倍率としては、TEM機能で150万倍の高分解能観察が可能です(像撮影用CCDカメラは、高視野用と高倍率用の2台が付属)。また、STEM機能とEDS元素分析装置による元素マッピング機能も付属しています。

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走査電子顕微鏡 Quanta200FEG https://nanoplat.nagoya-microscopy.jp/archives/649 Sat, 14 Dec 2019 05:19:36 +0000 https://nanoplat.nagoya-microscopy.jp/wp/?p=649
Quanta200FEG

 5軸モータ駆動ステージの大型試料室を搭載していますので、最大8インチ径×80mm高さの大きな試料を入れることができ、試料を加工せずにそのままの状態での試料表面の形状観察や、EDS機能による元素組成分析が可能です。

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高速加工観察分析装置 MI-4000L (FIB-SEM) https://nanoplat.nagoya-microscopy.jp/archives/663 Fri, 13 Dec 2019 07:28:54 +0000 https://nanoplat.nagoya-microscopy.jp/wp/?p=663
MI-4000L
仕 様
FIB 二次電子像分解能(C.P) 4 nm @ 30 kV
加速電圧 1,2,3 kV –, 5-30 kV
プローブ
電流範囲
90 nA
イオン源 GA液体金属イオン源
SEM 二次電子像分解能(C.P) 1.1 nm @ 20 kV、
1.5 nm @ 10kV、
2.5 nm @ 1kV
加速電圧 0.1kV – 30 kV
電子銃 熱電界放射型電子銃
試料サイズ 4mm×4mm×2mm
オプション Ar/Xeイオンビームシステム
EDS(エネルギー分散型X線分析装置)
EBSD(電子線後方散乱回折分析装置)
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走査電子顕微鏡 JSM-6610A https://nanoplat.nagoya-microscopy.jp/archives/653 Fri, 13 Dec 2019 05:21:04 +0000 https://nanoplat.nagoya-microscopy.jp/wp/?p=653
JSM-6610 A

 電子銃/熱電子放出W
TEM点分解能/<50.0nm(SEM像) 分析用検出器/EDS 試料ホルダー/スタンダード、断面観察用

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バイオ/無機材料用高速FIB-SEMシステム ETHOS NX5000 https://nanoplat.nagoya-microscopy.jp/archives/779 Thu, 12 Dec 2019 09:29:19 +0000 https://nanoplat.nagoya-microscopy.jp/wp/?p=779
ETHOS NX5000
仕 様
FIB 二次電子像分解能(C.P) 4 nm @ 30 kV
60 nm @ 2 kV
加速電圧 0.5 kV – 30 kV
プローブ
電流範囲
0.05 pA – 100 nA
イオン源 GA液体金属イオン源
SEM 二次電子像分解能(C.P) 1.5 nm @ 1 kV、
0.7 nm @ 15 kV
加速電圧 0.1 kV – 30 kV
電子銃 冷陰極電界放出型
試料サイズ 最大 150 mm径
オプション Ar/Xeイオンビームシステム
EDS(エネルギー分散型X線分析装置)
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集束イオンビーム加工機 FB-2100(FIB) https://nanoplat.nagoya-microscopy.jp/archives/665 Thu, 12 Dec 2019 07:30:44 +0000 https://nanoplat.nagoya-microscopy.jp/wp/?p=665
FB-2100

 集束イオンビーム加工機(FIB)FB-2100では、バルクステージとサイトエントリーステージの両方を装備しています。 試料を真空外へ持ち出すことなくバルク試料から直接、電子顕微鏡用の薄膜試料が作製できるマイクロサンプリング機能を備えています。 また、CADシステムにより表面に任意図形の微細加工を施した試料の作製が可能です。

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