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‚‘¬‰ÁHŠÏŽ@•ªÍ‘•’uiFIB-SEMjMI-4000L
‚‘¬‰ÁHŠÏŽ@•ªÍ‘•’uiFIB-SEMjMI-4000L
Žd@—l
FIB “ñŽŸ“dŽq
‘œ•ª‰ð”\
iC.Pj
4 nm @ 30 kV
‰Á‘¬“dˆ³ 1,2,3 kV –, 5-30 kV
ƒvƒ[ƒu
“d—¬”͈Í
90 nA
ƒCƒIƒ“Œ¹ GA‰t‘Ì‹à‘®ƒCƒIƒ“Œ¹
SEM “ñŽŸ“dŽq
‘œ•ª‰ð”\
iC.Pj
1.1 nm @ 20 kVA
1.5 nm @ 10kVA
2.5 nm @ 1kV
  ‰Á‘¬“dˆ³ 0.1kV – 30 kV
  “dŽqe ”M“dŠE•úŽËŒ^“dŽqe
ŽŽ—¿ƒTƒCƒY 4mm~4mm~2mm
ƒIƒvƒVƒ‡ƒ“ Ar/XeƒCƒIƒ“ƒr[ƒ€ƒVƒXƒeƒ€
EDSiƒGƒlƒ‹ƒM[•ªŽUŒ^Xü•ªÍ‘•’uj
EBSDi“dŽqüŒã•ûŽU—‰ñÜ•ªÍ‘•’uj
ƒoƒCƒI/–³‹@Þ—¿—p‚‘¬FIB-SEMƒVƒXƒeƒ€@ETHOS@NX5000
ƒoƒCƒI/–³‹@Þ—¿—p‚‘¬FIB-SEMƒVƒXƒeƒ€@ETHOS@NX5000
Žd@—l
FIB “ñŽŸ“dŽq
‘œ•ª‰ð”\
iC.Pj
4 nm @ 30 kVA
60 nm @ 2 kV
‰Á‘¬“dˆ³ 0.5 kV – 30 kV
ƒvƒ[ƒu
“d—¬”͈Í
0.05 pA – 100 nA
ƒCƒIƒ“Œ¹ GA‰t‘Ì‹à‘®ƒCƒIƒ“Œ¹
SEM “ñŽŸ“dŽq
‘œ•ª‰ð”\
iC.Pj
1.5 nm @ 1 kVA
0.7 nm @ 15 kV
  ‰Á‘¬“dˆ³ 0.1 kV – 30 kV
  “dŽqe —â‰A‹É“dŠE•úoŒ^
ŽŽ—¿ƒTƒCƒY Å‘å 150 mmŒa
ƒIƒvƒVƒ‡ƒ“ Ar/XeƒCƒIƒ“ƒr[ƒ€ƒVƒXƒeƒ€
EDSiƒGƒlƒ‹ƒM[•ªŽUŒ^Xü•ªÍ‘•’uj
 
当施設の設備
反応科学超高圧走査透過電子顕微鏡
収差補正電子顕微鏡(冷電界放出電子銃)
収差補正電子顕微鏡(電界放出電子銃)
電子分光走査透過電子顕微鏡
高分解能分析電子顕微鏡
走査電子顕微鏡

試料作製装置群
高速加工観察分析装置
集束イオンビーム加工機
アルゴンイオン研磨装置
ウルトラミクロトーム
試料作製装置群
b@ŒÂlî•ñ•ÛŒì•ûj@b@ƒŠƒ“ƒN@b@ƒTƒCƒgƒ}ƒbƒv@b ƒy[ƒWƒgƒbƒv